上海新陽(300236.SZ)4月26日晚間發(fā)布2021年年報，2021年，公司實現(xiàn)營業(yè)收入10.16億元，同比增長46.47%;實現(xiàn)歸母凈利潤1.04億元，同比下降60.81%;實現(xiàn)扣非凈利潤0.95億元，同比增長149.30%;經(jīng)營活動產(chǎn)生的現(xiàn)金流量凈額為1.91億元，同比增長13.19%。

記者翻閱年報發(fā)現(xiàn)，上海新陽2021年歸母凈利潤較上年同期下降60.81%，主要系去年同期金融資產(chǎn)公允價值變動影響非經(jīng)常性損益增加2.2億元，但2021年非經(jīng)常性損益影響較小，其扣非凈利潤2021年大增149.3%。

上海新陽主要從事兩類業(yè)務：一類是集成電路制造及先進封裝用關鍵工藝材料及配套設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務，并為客戶提供整體化解決方案;另一類是環(huán)保型、功能性涂料的研發(fā)、生產(chǎn)及相關服務業(yè)務，并為客戶提供專業(yè)的整體涂裝業(yè)務解決方案。

前者主要包括芯片銅互連超純電鍍液與添加劑、氮化硅蝕刻液、干法蝕刻后清洗液、高端光刻膠、CMP拋光液、半導體封裝引線腳溢料去除技術、半導體配套設備產(chǎn)品等，后者包括氟碳涂料產(chǎn)品系列等。2021年，上海新陽半導體行業(yè)營收占比49.44%，涂料行業(yè)營收占比50.56%。半導體行業(yè)毛利率微增2.31個百分點。

具體來看，上海新陽在半導體傳統(tǒng)封裝領域功能性化學材料銷量與市占率全國第一，在集成電路制造關鍵工藝材料領域，芯片銅互連電鍍液及添加劑、蝕刻后清洗液已成功進入客戶端實現(xiàn)進口替代并已大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化。電鍍液及添加劑產(chǎn)品已覆蓋90-14nm技術節(jié)點，干法蝕刻后清洗液已經(jīng)實現(xiàn)14nm以上技術節(jié)點全覆蓋，20-14nm電鍍液及添加劑已實現(xiàn)銷售。

值得注意的是，2021年，上海新陽用于存儲器芯片的原創(chuàng)新產(chǎn)品氮化硅蝕刻液打破國外壟斷與封鎖，順利通過客戶驗證并實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化銷售，全年累計收到訂單3000多萬元;銅拋光后清洗液(PCMP)開發(fā)完成，已進入到客戶端;其自主研發(fā)的晶圓制造用光刻膠產(chǎn)品系列不斷完善，不同料號十余種產(chǎn)品在客戶端認證順利，KrF光刻膠已實現(xiàn)銷售;同時，上海新陽布局的研磨液(CMP)也已有成熟產(chǎn)品成功進入客戶端，實現(xiàn)銷售。

“光刻膠的全系列產(chǎn)品是我們未來十年要重點突破的業(yè)務。”上海新陽董秘李昊此前接受第一財經(jīng)專訪時表示，“我們光刻膠產(chǎn)品包括I線膠、KrF膠、ArF干法和ArF濕法膠，EUV光刻膠也已經(jīng)在和國外團隊做前端研發(fā)?；旧先奉惖墓饪棠z產(chǎn)品和配套材料我們都在推進，未來光刻技術將成為我們第三大核心技術。”

產(chǎn)能方面，上海新陽已完成上海本部配套年產(chǎn)能1.87萬噸的建設，合肥第二生產(chǎn)基地一期年產(chǎn)能1.7萬噸的建設。

研發(fā)投入方面，根據(jù)通聯(lián)數(shù)據(jù)Datayes!，2021年上海新陽研發(fā)投入總額2.37億元，同比增長逾150%，占營業(yè)收入23.33%，其中半導體業(yè)務研發(fā)投入超2億元。主要集中于集成電路制造用光刻膠、氮化硅和氮化鈦蝕刻液、化學機械研磨后清洗液、銅互連電鍍添加劑、干法蝕刻清洗液項目。

上海新陽同時發(fā)布2022年一季報，一季度，公司實現(xiàn)營業(yè)收入2.46億元，同比增長18.95%;歸母凈利潤虧損1360.36萬元，同比下降1672.86%;實現(xiàn)扣非凈利潤2339.88萬元，同比增長3.55%.

一季報顯示，上海新陽一季度半導體業(yè)務增長25%以上，但受原材料價格大幅上漲因素影響，公司產(chǎn)品的毛利率相比有較大下降，公司將通過產(chǎn)品市場售價調整和大宗材料采購價格談判改善盈利能力;一季度公司投資的交易性金融資產(chǎn)，因公允價值變動下降，影響公司凈利潤-3537萬元。